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PRODUCTS & SOLUTIONS
產品&解決方案
M82200-10UM型PECVD 鍍膜設備
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基本參數 |
成膜種類 |
氮化硅 |
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裝片量與產能 |
416 片/批（156x156mm 方片），單臺5管產能≥3600片/小時； |
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在線時間 |
≥98%； |
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設備功率 |
峰值功率≤280KW，平均功率≤70KW； |
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設備尺寸 |
7400mm（不含真空泵）×2110mm×3530mm（L×W×H）； |
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成膜質量參數 |
成膜均勻性 |
片內≤4％、片間≤3％、批間≤3％（膜厚80～120nm）； |
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折射率均勻性 |
片內≤1.5％、片間≤1.5％、批間≤1.5％（折射率2～2.2）； |
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溫控系統參數 |
恒溫區長度及精度 |
≤±1℃/1600mm （450℃時）； |
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溫度控制范圍 |
200～580℃； |
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溫度控制方式 |
五段雙回路溫度控制； |
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真空系統參數 |
壓力控制 |
高精度VAT閥控制，控壓范圍220±40Pa； |
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石墨舟傳輸系統參數 |
石墨舟上料方式 |
全自動機械手上下舟，在線式/離線式對接插片機可選； |
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控制系統參數 |
推舟機構 |
水平速度1~12000mm/min可調，垂直速度1~150mm/min可調，承重≥40KG； |
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控制方式 |
高性能工控計算機全自動控制工藝過程，并對工藝參數和工藝流程實時監控； |
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基本參數 |
在線時間 |
≥98%； |
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設備功率 |
峰值功率≤280KW，平均功率≤70KW； |
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設備尺寸 |
7400mm（不含真空泵）×2110mm×3530mm（L×W×H）； |