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PRODUCTS & SOLUTIONS
產品&解決方案
M82200-10UM型PECVD 鍍膜設備
基本參數 |
成膜種類 |
氮化硅 |
裝片量與產能 |
416 片/批(156x156mm 方片),單臺5管產能≥3600片/小時; |
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在線時間 |
≥98%; |
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設備功率 |
峰值功率≤280KW,平均功率≤70KW; |
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設備尺寸 |
7400mm(不含真空泵)×2110mm×3530mm(L×W×H); |
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成膜質量參數 |
成膜均勻性 |
片內≤4%、片間≤3%、批間≤3%(膜厚80~120nm); |
折射率均勻性 |
片內≤1.5%、片間≤1.5%、批間≤1.5%(折射率2~2.2); |
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溫控系統參數 |
恒溫區長度及精度 |
≤±1℃/1600mm (450℃時); |
溫度控制范圍 |
200~580℃; |
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溫度控制方式 |
五段雙回路溫度控制; |
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真空系統參數 |
壓力控制 |
高精度VAT閥控制,控壓范圍220±40Pa; |
石墨舟傳輸系統參數 |
石墨舟上料方式 |
全自動機械手上下舟,在線式/離線式對接插片機可選; |
控制系統參數 |
推舟機構 |
水平速度1~12000mm/min可調,垂直速度1~150mm/min可調,承重≥40KG; |
控制方式 |
高性能工控計算機全自動控制工藝過程,并對工藝參數和工藝流程實時監控; |
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基本參數 |
在線時間 |
≥98%; |
設備功率 |
峰值功率≤280KW,平均功率≤70KW; |
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設備尺寸 |
7400mm(不含真空泵)×2110mm×3530mm(L×W×H); |